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大口径CVD管式炉

大口径CVD管式炉

大口径CVD管式炉

包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。

产品介绍:
    PT-T1200大口径CVD管式炉是一种具有60mm直径石英管,真空泵和三通道质量流量计气体流动系统的可拆分管式炉。 它可以混合1-3种气体用于CVD或扩散。
产品用途:
   包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料、二维材料等,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
也可用于:真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。
产品参数:
型号 PT-T1200-CVD
显示 液晶显示屏
第一部分
炉膛 分体式和上部可以打开
最高工作温度 1100°C
加热速率 建议:0〜10℃/ min(最高20℃/ min)
加热温区 500mm
加热元件 钼电阻丝
温度控制精度 ±1℃
炉管尺寸 外径200mm X长度1200mm
供电电源 三相380V,50HZ
功率 20KW  (功率以实际设计为准)
温度控制器 30段高精度数字可编程温度控制器
第二部分混气系统 七星华创
量程
MFC1 H2 0-200sccm 氢气
MFC2 NH3 0-200sccm 氨气 (D07-26C 即可,但是需要特殊要求耐氨的)
MFC3 SiH4 0-200sccm 硅烷(CS200A 硅烷专用流量计)
LCD触摸屏
第三部分  电阻硅真空计
第四部分  射频电源
更多规格可根据需求定制