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等离子体增强化学气相沉积系统

等离子体增强化学气相沉积系统

等离子体增强化学气相沉积系统

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术。

产品介绍:
    等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜技术生长的一种系的制备技术。我公司依据实验要求设计制作该款设备以适应各类薄膜研究的需要。

主要功能和特点:
1、采用专业加热元件,炉膛保温材料采用多晶纤维材料,保温性能好,耐用,拉伸强度高,无杂球,纯度高,节能效果明显优于国内纤维材料。
2、整个炉体采用双层内胆式结构,中间有气隙隔离,即使炉膛温度达到最高点,炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。
3、炉膛采用节能材料制作,整机能耗仅仅只有同等传统电炉的1/3,节能环保。
4、超温报警并断电,漏电保护,操作安全可靠具有多重防护功能。
5、PECVD管式炉系统由:射频电源,管式炉加热区系统,质子流量计供气系统,真空系统,气体定量系 统组成。

产品参数:

 
产品名称 PECVD
 
产品型号 PT-PECVD
500W 射频电源
匹配功率范围 0-500W+1%可调
工作频率 13.56MHZ +- 0.005%
反射功率 最大200W
匹配方式 自动
输出接口 UHF或N型或7/16(L29)
冷却 强制风冷
电压频率 220V 50Hz
匹配阻抗范围 实部0-80Ω 虚部-j200~+j200(可根据负载调节阻抗)
管式加热系统 
滑道 带滑道,可手动滑动炉膛,实现快速升温或冷却功能
加热区长度 300mm
炉管尺寸 60mm x1600mm 外径x长
炉管材质 高纯石英管  (SiO2 ≥ 99.99%)
工作温度 ≤1100℃
温控系统 智能化30段PID微电脑可编程自动控制
温控精度 ±1℃(具有超温及断偶报警功能)
加热速率 建议0~10℃/min
加热元件 电阻丝
额定电压 单相220V 50Hz
可通气体 氮气、氩气等惰性气体
测温元件 热电偶测温
壳体结构 双层壳体结构带风冷系统
真空法兰 法兰一端带1/4”卡套接头进气口,60转KF50快装法兰。另一端带控压阀,气动泄压阀和放气阀。
供气系统 四路精密质子流量计:
测量精度:±1.5% F.S.
流量范围:  0~200 sccm(含10%甲烷的氩气)
流量范围:  0~200 sccm(含10%甲烷的氩气)
流量范围:  0~200 sccm(氩气)
流量范围:  0~500 sccm(含10%甲烷的氩气)
通过触屏来调节气体流量

 
真空系统 旋片泵,真空度在空炉冷态可达1pa,
真空计:进口数显真空计实时显示真空度,精度高。
控压系统 控压范围 -20kpa 到 20kpa (也可按客户要求设计)
自动化控制
15”触摸屏
触摸屏界面集成控制炉子,真空泵,质量流量计以及射频电源。炉子部分需要先设好温度时间曲线。集成控制部分可以控制温度曲线的启停,真空度,气体流量,射频功率和射频启停,泄压阀等。
标准配件 数显真空计2个,石英炉塞1对,高密封法兰1对,氟胶密封圈2对,高温坩埚钩1把,拆卸法兰六角扳手1把,保修卡说明书1份
备注 法兰,质量流量计,阀门,管路等用316不锈钢材质
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