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CVD设备

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产品介绍:
诺泰此CVD设备由蒸发器、混合器和反应器组成。采用氧化铝纤维耐火材料。设备技术成熟、质量可靠,温场均匀,结构合理,30段可编程温控系统,气路选用液晶屏触摸界

产品介绍:
    诺泰此CVD设备由蒸发器、混合器和反应器组成。采用氧化铝纤维耐火材料。设备技术成熟、质量可靠,温场均匀,结构合理,30段可编程温控系统,气路选用液晶屏触摸界面,使得操作异常简单、方便设备的各项技术参数。
 
应用范围:
    广泛应用于半导体工业中,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料等的镀膜,该设备可在目标材料表面形成密集的HfCl4涂层.适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
 
产品参数:
 

产品名称 CVD设备
产品型号 PT-T1600-CVD
第一部分: 定制坩埚炉(蒸发系统)
使用温度 超过500℃
工作区尺寸 Φ150 x H320mm(不锈钢内胆的有效尺寸)
坩埚 310S不锈钢,形式及具体要求与客户确认
加热元件 电阻丝
升温速率 0-20°C/min
漏率 20Pa/min
第二部分:定制小管式炉(混气系统)
使用温度 超过500℃
工作区尺寸 Φ150 x H200mm(不锈钢内胆尺寸)
混气罐 310S 不锈钢
加热元件 电阻丝
漏率 20Pa/min
第三部分  1600度管式炉(反应器)
最高温度 1600℃
长期工作温度 1500℃
炉管尺寸 OD100/ID90,加热区300mm
炉管材质 高纯氧化铝管
加热元件 硅钼棒
漏率 20Pa/min
真空度 抽真空度到-7*10-3Pa
压力范围不超过0.02MPa
更多参数可根据需求定制

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