诺泰此CVD设备由蒸发器、混合器和反应器组成。采用氧化铝纤维耐火材料。设备技术成熟、质量可靠，温场均匀，结构合理，30段可编程温控系统，气路选用液晶屏触摸界面，使得操作异常简单、方便设备的各项技术参数。
应用范围：
广泛应用于半导体工业中，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料等的镀膜，该设备可在目标材料表面形成密集的HfCl4涂层.适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
产品参数：
| 产品名称 | CVD设备 |
| 产品型号 | PT-T1600-CVD |
| 第一部分： 定制坩埚炉（蒸发系统） | |
| 使用温度 | 超过500℃ |
| 工作区尺寸 | Φ150 x H320mm（不锈钢内胆的有效尺寸） |
| 坩埚 | 310S不锈钢，形式及具体要求与客户确认 |
| 加热元件 | 电阻丝 |
| 升温速率 | 0-20°C/min |
| 漏率 | 20Pa/min |
| 第二部分：定制小管式炉（混气系统） | |
| 使用温度 | 超过500℃ |
| 工作区尺寸 | Φ150 x H200mm（不锈钢内胆尺寸） |
| 混气罐 | 310S 不锈钢 |
| 加热元件 | 电阻丝 |
| 漏率 | 20Pa/min |
| 第三部分 1600度管式炉（反应器） | |
| 最高温度 | 1600℃ |
| 长期工作温度 | 1500℃ |
| 炉管尺寸 | OD100/ID90,加热区300mm |
| 炉管材质 | 高纯氧化铝管 |
| 加热元件 | 硅钼棒 |
| 漏率 | 20Pa/min |
| 真空度 |
抽真空度到-7*10-3Pa 压力范围不超过0.02MPa |
| 更多参数可根据需求定制 | |
