专注于高温加热设备的工匠|真空炉|箱式炉|管式炉|气氛炉|高温炉|PECVD系统|气氛烧结炉

咨询电话:180-3717-8440
真空炉,箱式炉,管式炉,气氛炉
咨询产品
  • 多种国家专利

    研发实力雄厚
  • 定制经验丰富

    强大的技术团队
  • 十年业内经验

    客户信赖的品牌

科研型扩散氧化炉

科研型扩散氧化炉

科研型扩散氧化炉

科研型扩散氧化炉产品特点:1、可满足多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等工艺

产品特点:
1、可满足多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等工艺
2、采用高可靠性工控机+PLC模式,对炉温、进退舟、气体流量、阀门进行全自动控制,实现全部工艺过程自动化;
3、具有友好的人机界面,用户可以方便地修改工艺控制参数,并可随时显示各种工艺状态;
4、具有多种工艺管路,可供用户方便选择;
5、具有强大的软件功能,配有故障自诊断软件,可大大节省维修时间;
6、恒温区自动调整,串级控制,可准确控制反应管的实际工艺温度;
7、具有超温、断偶、热偶短路、工艺气体流量偏差报警和保护功能; 
8、可根据用户要求定制产品。
 
应用范围:
    本设备为科研型扩散氧化炉,适用于企业研发、大学及科研院所的科研与教学。可满足多晶硅、氮化硅、扩散、氧化、退火等工艺。
 
产品参数:


产品名称 科研型扩散氧化炉
产品型号 PT-T1300-LZ
工作温度 1300℃
应用晶片尺寸  2~8英寸圆片
可配工艺管数量 1~2管/台
恒温区长度 300~600mm
恒温区精度 ≤±0.5℃
温度稳定性 ≤±0.5℃/24h
温度斜变能力 最大升温速率10℃/min,最大降温速率5℃/min
预警 具有超温、断偶、热偶短路、工艺气体流量偏差报警和保护功能
更多规格可根据要求来定制

上一篇:石墨稀-碳纳米管材料CVD设备 下一篇:没有了