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1200℃化学气相沉积设备

1200℃化学气相沉积设备

1200℃化学气相沉积设备

化学气相沉积设备 由2或3.14O.D可选分流管炉,带气体混合罐的4通道精密质量流量计和高质量机械泵组成。

产品概述:

化学气相沉积设备由2或3.14O.D可选分流管炉,带气体混合罐的4通道精密质量流量计和高质量机械泵组成。

这款化学气相沉积金刚石机器CVD炉是沉积薄膜或将纳米线从气态(蒸气)变成固态的理想且价格合理的工具,其优点是:

1.与常规CVD相比,温度处理更低。

2.膜应力可以通过高频/低频混合技术来控制。

3.通过工艺条件控制化学计量。

4.提供广泛的材料沉积,包括SiOx,SiNx,SiOxNy和非晶硅(a-Si:H)沉积。
 

产品特点:

1.炉膛采用进口氧化铝多晶纤维,有效隔热 ,节能;

2.进口加热元件,大大提高其使用寿命,高密度进口氧化铝管子,经久耐用,不易折断;

3.预留真空,气路快速接口,可配合我们的真空系统或混合系统使用;

4.超温报警及停电,漏电保护,运行安全可靠。

5.根据您的要求提供智能的空气泄漏测试仪/气体泄漏报警系统。


化学气相沉积应用:

这款化学气相沉积金刚石机器CVD炉广泛用于1200℃下各种CVD实验反应温度,也可用于真空烧结,真空保护气氛烧结纳米材料制备,电池材料制备等研究领域。

分体式炉 

 

1200C化学气相沉积机CVD炉

输入功率:208 – 240V AC,1.2kW

 

最高1700°C 工作温度<60分钟

 

最高1600°C连续加热

 

高纯度石英管2“ OD x 1.7” ID x 39.4“长度 

 

30段可编程精密数字温度控制器

8英寸(200毫米),单个区域。2.3英寸(60毫米)  

温度计

 

1200C化学气相沉积机CVD炉

   

      30段PID自动智能温度控制

 

      温度精度可达uo +/- 1C

 

      温升迅速冷却空冷或水冷系统

真空法兰和配件

 

1200C化学气相沉积机CVD炉

真空法兰套件由304不锈钢制成。 

 

左法兰组件包括一个KF-25真空端口,两个KF-25 

快速夹紧。

 

一个KF-25直角阀,一个KF-25真空波纹管,一个法兰 

支持1/4 OD  软管接头和针形阀。

 

真空泵 

1200C化学气相沉积机CVD炉

交流220V 50 Hz 1 / 2HP 375W

 

2升/ S或120升/米 

 

已安装集油器(入口)和排气过滤器(出口)。

保证 

一年有限保修,提供技术支持

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