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立式PECVD设备

立式PECVD设备

立式PECVD设备

立式PECVD系统,由真空立式管式炉、射频电源、供气系统、石英真空室、真空测量系统组成。

产品概述:
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜,此立式PECVD设备真空立式管式炉、射频电源、供气系统、石英真空室、真空测量系统组成。

 

PECVD系统配置:

1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统
 

 

产品特性:

立式PECVD设备温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧,性价比高,可实现快速升降温,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择。立式PECVD系统以含钼电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温仪表,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。


 

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